Universal-300 Dual 是基于PG娛樂國際自主知識產(chǎn)權創(chuàng)新技術研發(fā)的成熟12英寸CMP裝備。該設備配備多組性能優(yōu)越的拋光單元及清洗單元，集成多種先進終點檢測技術，優(yōu)異的工藝可調(diào)性和穩(wěn)定性，可實現(xiàn)晶圓表面的超高平整度，滿足成熟制程技術需求，已在集成電路、先進封裝、大硅片等制造工藝中批量應用。
多分區(qū)拋光頭
優(yōu)異的工藝可調(diào)性和穩(wěn)定性
可實現(xiàn)產(chǎn)品干進干出
滿足成熟制程技術需求
用于Oxide/SiN/STI/Poly/Cu/W等CMP制程