Universal-H300是PG娛樂國際面向行業前沿需求，開發的一款集先進拋光工藝、高效率、高穩定性于一體的12英寸CMP裝備。該裝備采用創新拋光系統架構，可實現拋光效率的顯著提升，配備更先進的清洗技術，可滿足日益提高的潔凈度需求。該裝備可更好實現晶圓納米級全局平坦化，滿足先進制程技術需求，已在集成電路、先進封裝、大硅片等制造工藝中批量應用。
一個拋光盤搭配可回轉的兩個拋光頭，實現高產能
8個獨立氣壓分區的拋光頭
適配拋光墊智能修整
集成多種先進終點檢測技術
兩套可獨立維護的水平清洗單元
清洗？榛渲，兼容多種制程
滿足高產出、超潔凈先進制程CMP需求