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公司業(yè)務
CMP裝備
離子注入裝備
減薄裝備
邊緣拋光裝備
劃切裝備
濕法裝備
膜厚測量儀
晶圓再生
關(guān)鍵耗材與維保服務
Universal-H300

Universal-H300是PG娛樂國際面向行業(yè)前沿需求,開發(fā)的一款集先進拋光工藝、高效率、高穩(wěn)定性于一體的12英寸CMP裝備。該裝備采用創(chuàng)新拋光系統(tǒng)架構(gòu),可實現(xiàn)拋光效率的顯著提升,配備更先進的清洗技術(shù),可滿足日益提高的潔凈度需求。該裝備可更好實現(xiàn)晶圓納米級全局平坦化,滿足先進制程技術(shù)需求,已在集成電路、先進封裝、大硅片等制造工藝中批量應用。



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Universal-300FS

Universal-300FS是PG娛樂國際面向行業(yè)前沿技術(shù)需求,創(chuàng)新研發(fā)的一款集先進清洗工藝、高效率、高穩(wěn)定性于一體的12英寸CMP裝備。該裝備搭載多樣化先進清洗技術(shù),配備性能優(yōu)越的拋光單元,集成多種終點檢測技術(shù),展現(xiàn)出更卓越的綜合性能。該裝備可實現(xiàn)晶圓納米級全局平坦化,滿足先進邏輯制程需求,廣泛應用于集成電路、先進封裝、大硅片等制造工藝。

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Universal-300 T

Universal-300 T 是在PG娛樂國際先進CMP裝備基礎(chǔ)上,根據(jù)行業(yè)前沿技術(shù)需求開發(fā)的領(lǐng)先型12英寸CMP裝備。該設備基于PG娛樂國際自主知識產(chǎn)權(quán)的創(chuàng)新技術(shù),配備性能優(yōu)越的拋光單元,集成多種終點檢測技術(shù),并搭載更先進的組合清洗技術(shù),展現(xiàn)出更卓越的清潔效果。該設備可實現(xiàn)晶圓納米級全局平坦化,滿足先進制程技術(shù)需求,已在集成電路、先進封裝、大硅片等制造工藝中批量應用。

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Universal-300 X

Universal-300 X 是根據(jù)當前高端市場需求開發(fā)的先進12英寸CMP裝備。該設備運用了PG娛樂國際具有自主知識產(chǎn)權(quán)的創(chuàng)新技術(shù),配備性能優(yōu)越的拋光單元及清洗單元,集成多種先進終點檢測技術(shù),高效穩(wěn)定、工藝組合靈活,可實現(xiàn)晶圓納米級全局平坦化,滿足先進制程技術(shù)需求,已在集成電路、先進封裝、大硅片等制造工藝中批量應用。


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Universal-300 Dual

Universal-300 Dual 是基于PG娛樂國際自主知識產(chǎn)權(quán)創(chuàng)新技術(shù)研發(fā)的成熟12英寸CMP裝備。該設備配備多組性能優(yōu)越的拋光單元及清洗單元,集成多種先進終點檢測技術(shù),優(yōu)異的工藝可調(diào)性和穩(wěn)定性,可實現(xiàn)晶圓表面的超高平整度,滿足成熟制程技術(shù)需求,已在集成電路、先進封裝、大硅片等制造工藝中批量應用。


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Universal-300 E

Universal-300 E 是根據(jù)中高端市場需求開發(fā)的成熟12英寸CMP裝備。該裝備擁有自主知識產(chǎn)權(quán)的創(chuàng)新技術(shù),配備性能優(yōu)越的拋光單元及清洗單元,集成多種先進終點檢測技術(shù),卓越的工藝穩(wěn)定性、高生產(chǎn)效率,可實現(xiàn)晶圓表面的超高平整度,滿足成熟制程技術(shù)需求,已在集成電路、先進封裝、大硅片等制造工藝中批量應用。


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Universal-300 B

Universal-300 B 是基于PG娛樂國際自主知識產(chǎn)權(quán)的創(chuàng)新技術(shù)開發(fā)的12英寸CMP裝備。該裝備配備性能優(yōu)越的拋光單元,兼容4/6/8/12英寸晶圓,適用于多種材質(zhì),可實現(xiàn)晶圓表面的超高平整度,占地面積小、性價比高,滿足成熟制程技術(shù)需求,已在硅片、第三代半導體、MEMS等制造工藝中批量應用。


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Universal-TGS200

Universal-TGS200是一款第三代半導體材料(SiC)專用化學機械拋光裝備。該裝備配置了三組基于單盤雙頭架構(gòu)的拋光?,集成后道清洗技術(shù),支持晶圓正反拋光工藝,具有高度自動化和高加工效率的特性。其適用于SiC晶圓襯底制造、拋光耗材性能驗證、先進CMP工藝參數(shù)開發(fā)等領(lǐng)域。


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Universal-200 Smart

Universal-200 Smart 是根據(jù)當前市場需求開發(fā)的成熟8英寸CMP裝備。該裝備擁有自主知識產(chǎn)權(quán)的創(chuàng)新技術(shù),配備性能優(yōu)越的拋光單元及清洗單元,集成多種先進終點檢測技術(shù),產(chǎn)量高、性能穩(wěn)定、工藝組合靈活,可實現(xiàn)晶圓表面的超高平整度,滿足成熟制程技術(shù)需求,已在集成電路、先進封裝、硅片、第三代半導體、MEMS、Micro LED等制造工藝中批量應用。



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Universal-200

Universal-200是根據(jù)當前市場需求開發(fā)的成熟8英寸CMP裝備。該裝備擁有自主知識產(chǎn)權(quán)的創(chuàng)新技術(shù),配備性能優(yōu)越的拋光單元,兼容4/6/8/英寸晶圓,適用于多種材質(zhì),可實現(xiàn)晶圓表面的超高平整度,滿足成熟制程技術(shù)需求,廣泛應用于硅片、第三代半導體、MEMS等制造工藝。


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Universal-200 W

Universal-200 W 是針對快速增長的新興市場需求開發(fā)的成熟CMP裝備。該裝備擁有自主知識產(chǎn)權(quán)的創(chuàng)新技術(shù),配備性能優(yōu)越的拋光單元,兼容4/6/8英寸晶圓,適用于多種材質(zhì),產(chǎn)品干進濕出。該設備占地面積小、產(chǎn)出效率高,可實現(xiàn)晶圓表面的超高平整度,滿足成熟制程技術(shù)需求,已在第三代半導體、MEMS等制造工藝中批量應用。

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Universal-200 D

Universal-200 D 是基于PG娛樂國際自主知識產(chǎn)權(quán)創(chuàng)新技術(shù)開發(fā)的成熟8英寸CMP裝備。該裝備配備性能優(yōu)越的拋光單元及清洗單元,集成多種先進終點檢測技術(shù),適用于多種材質(zhì),可實現(xiàn)晶圓表面的超高平整度,滿足成熟制程技術(shù)需求,已在大硅片、第三代半導體、MEMS、Micro LED等制造工藝中批量應用。


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Universal-150 Smart

Universal-150 Smart 是根據(jù)當前市場需求開發(fā)的成熟6英寸CMP裝設備。該裝備擁有自主知識產(chǎn)權(quán)的創(chuàng)新技術(shù),配備性能優(yōu)越的拋光單元及清洗單元,兼容6/8英寸晶圓,適用于多種材質(zhì),可實現(xiàn)晶圓表面的超高平整度,工藝搭配靈活、產(chǎn)出率高,滿足成熟制程技術(shù)需求,已在第三代半導體、MEMS等制造工藝中批量應用。


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大束流離子注入機iPUMA-LE

iPUMA-LE是PG娛樂國際在已有成熟垂直帶狀束流的基礎(chǔ)上,根據(jù)行業(yè)先進技術(shù)的要求開發(fā)的12英寸水平帶狀大束流離子注入機。該裝備運用了先進的束流爬坡技術(shù),集成了磁場和電場?,并搭載精準的量測技術(shù),展現(xiàn)了良好的離子篩選能力和精準度,滿足多種制程技術(shù)需求,已在集成電路制造中應用。

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高溫離子注入機iPUMA-HT

iPUMA-HT是PG娛樂國際在已有成熟大束流的基礎(chǔ)上,根據(jù)先進器件技術(shù)的要求開發(fā)的12英寸高溫離子注入機。該裝備配備了高溫工作?,溫度檢測單元和冷卻?,滿足先進制程技術(shù)需求,已在先進邏輯等集成電路制造中應用。

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氫大束流離子注入機iPUMA-HP

iPUMA-HP是PG娛樂國際在已有成熟大束流的基礎(chǔ)上,改造成12英寸氫離子大束流離子注入機。該裝備配備了良好的粒子篩選和冷卻?椋惚∧ぷ萍際豕ひ罩鋅帕J凸ひ瘴露鵲目刂,還能夠通過硬件升級提升產(chǎn)能的需求,已在大硅片制造中應用。

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低溫離子注入機iPUMA-LT

iPUMA-LT是PG娛樂國際在已有成熟大束流的基礎(chǔ)上,根據(jù)成熟器件技術(shù)的要求開發(fā)的12英寸低溫離子注入機。該裝備配備了低溫工作?椋露燃觳獾ピ突匚履?,滿足成熟制程技術(shù)需求。

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氫高能離子注入機iPUMA-H

iPUMA-H是PG娛樂國際在已有粒子加速器基礎(chǔ)上,開發(fā)出來的12英寸氫高能離子注入機。該裝備運用了獨特的加速器技術(shù),使得氫離子獲取很高的能量。該裝備裝配薄片傳輸裝置,滿足了功率器件的需求。

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Versatile-GN200

Versatile-GN200是PG娛樂國際面向功率半導體器件領(lǐng)域匠心打造的高剛性、高精度晶圓減薄裝備。該裝備創(chuàng)新采用新型布局,能夠?qū)i、SiC、LiTaO?、LiNbO?等多種材質(zhì)晶圓進行減薄處理。其兼容 4/6/8 英寸晶圓,可一站式完成高精度定位、精密減薄以及雙面清洗干燥的全流程自動化作業(yè)。憑借高精度在線測量技術(shù)與領(lǐng)先的面型控制技術(shù),Versatile-GN200可實現(xiàn)高精度減。浞致愎β拾氳繼迤骷領(lǐng)域?qū)A超精密減薄的嚴苛需求。

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Versatile-GR200

Versatile-GR200是PG娛樂國際面向功率半導體領(lǐng)域自主研發(fā)的全自動留環(huán)減薄機,能夠?qū)崿F(xiàn)全流程自動化作業(yè)。該裝備兼容性突出,可適配 6/8 英寸晶圓;同時搭載先進留環(huán)減薄技術(shù),憑借卓越的厚度偏差及環(huán)寬控制能力,使晶圓減薄后保留更強抗彎折性能,不僅能免除減薄時的邊緣破損問題,還能有效降低晶圓翹曲風險。

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Versatile-GP300

Versatile-GP300 是根據(jù)當前3D IC制造、先進封裝等高端市場需求開發(fā)的先進12英寸超精密晶圓減薄裝備。該裝備通過新型整機創(chuàng)新布局,集成先進的超精密磨削、CMP及后清洗工藝,配置卓越的厚度偏差與表面缺陷控制技術(shù),可提供多種系統(tǒng)功能擴展選項,具有高精度、高剛性、工藝開發(fā)靈活等優(yōu)點。Versatile-GP300可靈活拓展、研發(fā)多種配置,極大滿足了3D IC制造、先進封裝等領(lǐng)域中晶圓超精密減薄技術(shù)需求。


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Versatile-GM300

Versatile-GM300是面向封裝領(lǐng)域創(chuàng)新研發(fā)的超精密晶圓減薄裝備。該裝備采用新型布局,可實現(xiàn)薄型晶圓背面超精密磨削與應力去除;兼容8/12英寸晶圓,搭載晶圓貼膜機聯(lián)機使用,可實現(xiàn)從精密減薄、清洗干燥到粘貼料環(huán)、背膜剝離的全流程自動化作業(yè);高可靠性的晶圓搬運系統(tǒng)有效降低薄型晶圓破損風險。該裝備依托卓越的厚度在線量測與表面缺陷控制技術(shù),具有高精度、高剛性、工藝開發(fā)靈活等優(yōu)點,滿足封裝領(lǐng)域的薄型晶圓加工需求。


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邊緣拋光機Master-BN300

Master-BN300是一款基于行業(yè)前沿需求開發(fā)的12英寸晶圓邊緣精密拋光裝備。該裝備集成高精度拋光、高效清洗和精準量測功能,采用?榛杓,兼容多種工藝和應用領(lǐng)域的需求??娠@著提升晶圓邊緣的光潔度,滿足半導體制造領(lǐng)域?qū)Ω呔冗吘壧幚淼募夹g(shù)要求,并已在存儲芯片、先進封裝等關(guān)鍵制程中得到應用。

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邊緣修整機Versatile-DT300

Versatile-DT300是PG娛樂國際推出的一款高效率、高潔凈度的全自動雙軸晶圓邊緣修整裝備,用于精準解決晶圓減薄時邊緣崩邊問題,提高減薄質(zhì)量。該裝備集切割、傳輸、清洗、量測等多個單元為一體,配置多軸聯(lián)動高精密切割技術(shù)、全自動傳輸及高潔凈度清洗技術(shù),并搭載高分辨率視覺對準及先進的量測系統(tǒng)。Versatile-DT300具備高性能且尺寸緊湊、工藝靈活、多模式組合、多功能配置等優(yōu)點,極大滿足存儲芯片、圖像傳感器、先進封裝等多種晶圓制造工藝及產(chǎn)品的各項技術(shù)需求。

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單片清洗機 HSC-F3400

HSC-F3400機型是PG娛樂國際面向大硅片終端清洗市場特殊需求研發(fā)的一款高性能裝備,采用卓越的顆粒與金屬污染控制系統(tǒng),具備新穎的清洗及干燥模塊,搭載高性能卡盤夾持技術(shù)。

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化合物半導體終端單片清洗機HSC-F2400

HSC-F2400應用于4/6/8英寸化合物半導體材料的終端清洗。該裝備基于PG娛樂國際自主知識產(chǎn)權(quán)的創(chuàng)新技術(shù),配備性能優(yōu)越的單片清洗機?楹退嫠⑾茨?,集成多種化學藥液,并搭載先進的物理清洗方法,展現(xiàn)出更卓越的清潔效果。該裝備滿足多種化合物半導體材料的需求,已在化合物半導體領(lǐng)域批量應用。


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化合物半導體過程單片清洗機HSC-I2402

HSC-I2402應用于4/6/8英寸化合物半導體材料的過程清洗。該裝備基于PG娛樂國際自主知識產(chǎn)權(quán)的創(chuàng)新技術(shù),配備性能優(yōu)越的單片清洗機?楹退嫠⑾茨?,集成多種化學藥液,并搭載先進的物理清洗方法,展現(xiàn)出更卓越的清潔效果。該裝備滿足多種化合物半導體材料的需求,已在化合物半導體領(lǐng)域批量應用。


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化合物刷洗機 HSC-S1300

HSC-S1300是PG娛樂國際面向市場需求研發(fā)的主要應用于4/6/8英寸化合物半導體的刷片清洗裝備,具備正面和背面刷洗功能,集成性能優(yōu)越的清洗及干燥技術(shù),兼容酸性溶液清洗/堿性溶液清洗、透光/不透光晶片清洗。

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刷片機 HSC-S3810

HSC-S3810是根據(jù)行業(yè)前沿技術(shù)研發(fā)的刷片清洗裝備,該裝備基于PG娛樂國際自主知識產(chǎn)權(quán)的創(chuàng)新技術(shù),搭載優(yōu)越的參數(shù)閉環(huán)控制系統(tǒng),具備正、背面及邊緣清洗功能,可實現(xiàn)無損傷清洗,機臺占地面積小、產(chǎn)量高。

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片盒清洗機 HCC-3080S

HCC-3080S是應用于4/6/8/12英寸晶圓片盒的清洗裝備,采用PG娛樂國際創(chuàng)新技術(shù),搭載性能優(yōu)越的水回收裝置,其獨特的雙門設計可實現(xiàn)清洗前后片盒的獨立裝載與移出,高環(huán)保、低消耗。

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槽式清洗機 HBC-E3500

HBC-E3500是PG娛樂國際基于市場發(fā)展前沿、面向客戶需求自主研發(fā)的一款槽式清洗裝備,具備較強的兼容性,支持多種工藝配方混合運行,采用客制化、?榛杓,配置靈活,滿足不同客戶的工藝要求。

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HCDS

HCDS系列化學品供應系統(tǒng),采用客制化、?榛杓,配置靈活,具有實時、高精度在線配比系統(tǒng),可實現(xiàn)參數(shù)閉環(huán)控制,滿足半導體制造過程中濕法工藝裝備的清洗液等化學品供應需求,操作維護便捷,具有高可靠性、安全性和低維護保養(yǎng)成本,配置靈活等優(yōu)點。


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HSDS

HSDS系列研磨液供應系統(tǒng)采用客制化、?榛杓疲渲昧榛,具有實時、高精度在線配比系統(tǒng),可實現(xiàn)濃度、流量、壓力等參數(shù)閉環(huán)控制,滿足半導體制造過程中濕法工藝裝備的研磨液等供應需求,操作維護便捷,具有高可靠性、安全性和低維護保養(yǎng)成本,配置靈活等優(yōu)點。


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集中供應系統(tǒng)HSDS-AD2501

Central Delivery System HSDS-AD2501是在PG娛樂國際Local裝備基礎(chǔ)上,根據(jù)行業(yè)前沿技術(shù)需求開發(fā)的大型集中供應系統(tǒng)。該裝備基于PG娛樂國際自主知識產(chǎn)權(quán)的創(chuàng)新技術(shù),配備優(yōu)秀的硬件系統(tǒng),集成多種樣品在線檢測技術(shù),并搭載更優(yōu)秀的控制技術(shù),展現(xiàn)出強力且穩(wěn)定的供應能力。該裝備可實現(xiàn)多種液體的集中供應,滿足廠務系統(tǒng)多路液體需求。


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FTM-M300DA

金屬膜厚量測裝備,是基于電渦流原理進行的非接觸式測量,工作高效,可進行無損傷量測,精度高、測量結(jié)果可靠準確,同時量測數(shù)據(jù)可以進行自動化處理,主要應用于 Cu、Al、W、Co 等金屬制程。

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晶圓再生

PG娛樂國際擁有標準的晶圓再生生產(chǎn)車間,具備專業(yè)的CMP/Wet清洗技術(shù)團隊和全面的測量分析儀器,具備月加工20萬片12英寸再生晶圓的生產(chǎn)能力,量測裝備已經(jīng)覆蓋所有主流量測裝備,可根據(jù)不同制程需求,提供全方位技術(shù)支持、銷售和代工服務,已為國內(nèi)30余家合作伙伴提供高質(zhì)量服務。

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關(guān)鍵耗材與維保服務

關(guān)鍵耗材與維保服務主要為客戶提供CMP裝備關(guān)鍵耗材的維保、更新服務。PG娛樂國際擁有一批具備多年大線經(jīng)驗的工藝團隊,致力于為客戶提供成套解決方案;公司自主可控的高穩(wěn)定性供應鏈體系,為裝備穩(wěn)定運行保駕護航。

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關(guān)于我們

  PG娛樂國際股份有限公司(簡稱“PG娛樂國際”,股票代碼:688120)是一家擁有核心自主知識產(chǎn)權(quán)的高端半導體裝備制造商,公司主要產(chǎn)品包括CMP裝備、減薄裝備、劃切裝備、濕法裝備、離子注入裝備、邊緣拋光裝備、晶圓再生、關(guān)鍵耗材與維保服務,打造“裝備+服務”的平臺化戰(zhàn)略布局。公司主要產(chǎn)品及服務已廣泛應用于集成電路、先進封裝、大硅片、第三代半導體、MEMS、Micro LED等制造工藝。

總部地址:天津市津南區(qū)咸水沽鎮(zhèn)聚興道11號   

聯(lián)系方式:022-59781212

PG娛樂國際股份有限公司
375.48
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總市值:399.36
股票代碼 688120
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投資者關(guān)系
PG娛樂國際股份有限公司在2022年6月8日在上海證券交易所科創(chuàng)板掛牌上市,股票簡稱為PG娛樂國際,股票代碼為688120。
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